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ICP 刻蚀机：高密度等离子蚀刻装置NE-550

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产地: 北京市

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: 北京亚科晨旭科技有限公司

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主营产品：: 1、半导体前道设备,2、微组装设备,3、SMT设备,4、烙铁

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- 产品参数 -

商标	日本UlVAC爱发科
型号	ICP 刻蚀机：高密度等离子蚀刻装置N
包装	木箱
是否有现货	否
品牌	日本UlVAC爱发科
用途	ICP 刻蚀机：高密度等离子蚀刻装置N
自动化程度	全自动
电流	交流
型号	ICP 刻蚀机：高密度等离子蚀刻装置N
商标	日本UlVAC爱发科
包装	木箱

- 产品详情 -

 
 ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550 基本介绍 
 
 
 ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550  
   
   
 特点： 
 等离子密度与向基板入射的能量能够单独控制，因此Process window宽。 
 均一性好。 
 离子性蚀刻到radical性蚀刻都能都大幅度控制。 
 构造简单，维护性能  。 
 来自半导体技术研究所的工艺支持体制。 
 CS（Customer’s Support ）解决方案的综合服务体制。 
 可选Cassette室，提高生产量。 
   
 丰富的Process Application： 
 1.ISM: Inductively Super Magnetron有磁场ICP型 
 2.ISM是可以由低电源得到稳定均一的放电，达到Damage 少的蚀刻。 
 3.使用不挥发性材料的次时代memory‐Al2O3,磁性体，Pt, Ir, PZT, SBTO 等 
 4.  频率器件，光器件。 
 ‐绝缘膜，GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, Sapphire，GaN，STO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, Polyimide，BST, STO 
 5.各种传感器器件等Photo Nic结晶。 
 6.MEMS(micromachine） 
 
 
 ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550 性能特点 
 

    
 
 
 ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550 技术参数 
 

    
 
 
 ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550 使用说明 
 

    
 
 
 ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550 采购须知