Aluminum Oxide（Al2O3），即氧化铝靶材
 
高纯度氧化铝Al2O3靶材，应用在磁控溅射镀膜等工艺中，我司提供各类氧化物靶材和背板绑定Bonding服务。Aluminum Oxide（Al2O3），即氧化铝靶材，作为一种高性能的高纯溅射靶材材料，在薄膜制备领域展现出了其  的物理特性和广泛的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。所生产氧化物靶材 材料如下：
 
 
 
 
  
 
   
 
OXIDES 氧化物
 
 
  
 
  
 
   
 
Aluminum Oxide (Al2O3)
 
 
   
 
Magnesium Oxide (MgO)
 
 
  
 
  
 
   
 
Antimony Oxide (Sb2O3)
 
 
   
 
Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Barium Titanate (BaTiO3)
 
 
   
 
Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Bismuth Oxide (Bi2O3)
 
 
   
 
Molybdenum Oxide (MoO3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)
 
 
   
 
Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)
 
 
  
 
  
 
   
 
Cerium Oxide (CeO2)
 
 
   
 
Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2）
 
 
  
 
  
 
   
 
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)
 
 
   
 
Niobium Pentoxide (Nb2O5)
 
 
  
 
  
 
   
 
Chromium Oxide (Cr2O3)
 
 
   
 
Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3
 
 
  
 
  
 
   
 
Chromium Oxide (Eu doped)
 
 
   
 
Rare Earth Oxides (La2O3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gallium Oxide (Ga2O3)
 
 
   
 
Silicon Dioxide (SiO2)
 
 
  
 
  
 
   
 
Germanium Oxide (GeO3)
 
 
   
 
Silicon Monoxide (SiO)
 
 
  
 
  
 
   
 
Hafnium Oxide (HfO2)
 
 
   
 
Tantalum Pentoxide (Ta2O5)
 
 
  
 
  
 
   
 
Indium Oxide (In2O3)
 
 
   
 
Tin Oxide (SnO2)
 
 
  
 
  
 
   
 
Indium-Tin Oxide (ITO)
 
 
   
 
Titanium Dioxide (TiO2)
 
 
  
 
  
 
   
 
Iron Oxide (Fe2O3)
 
 
   
 
Tungsten Oxide (WO3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Lanthanum Oxide(La2O3)
 
 
   
 
Yttrium Oxide (Y2O3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Lead Titanate(PbTiO3)
 
 
   
 
Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)
 
 
  
 
  
 
   
 
Lead Zirconate (ZrPbO3)
 
 
   
 
Zinc Oxide (ZnO)
 
 
  
 
  
 
   
 
Lithium Niobate (LiNbO3)
 
 
   
 
Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)
 
 
  
 
  
 
   
 
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)
 
 
   
 
Zirconium Oxide (ZrO2)
 
 
  
 
 
 
 
氧化物(Al2O3)靶材特性：
 
1、首先，从纯度方面来看，氧化铝靶材的纯度通常达到99.99%以上，甚至可达99.999%的  纯度。这种高纯度确保了靶材在溅射过程中能够提供稳定且纯净的溅射源，从而制备出质量  的薄膜。高纯度还减少了杂质对薄膜性能的影响，如电学性能、光学性能及化学稳定性等，使得氧化铝薄膜在多个领域中的应用 加可靠和  。
 
2、在密度方面，氧化铝靶材的密度约为3.97~4.0g/cm3（真密度），这为其在溅射过程中提供了良好的稳定性。高密度使得靶材在溅射时能够保持均匀的溅射速率和薄膜厚度，从而提高了薄膜的均匀性和一致性。此外，高密度还赋予了氧化铝薄膜优异的机械性能和耐磨性，使其在需要高硬度、高耐磨性的应用中表现出色。
 
3、熔点方面，氧化铝的熔点高达2054°C，这一特性使得氧化铝靶材能够在高温环境下保持稳定，不易熔化或变形。这种高温稳定性对于需要高温溅射或沉积工艺的应用场景至关重要，如化学气相沉积（CVD）等高温工艺中。同时，高熔点也确保了氧化铝薄膜在高温环境下的稳定性和耐久性，使得其在航空  、能源存储等极端环境中的应用 加可靠。
 
三、行业应用：
 
氧化铝靶材展现出了广泛的应用优势。在半导体领域，氧化铝薄膜作为介电层、钝化层或绝缘层，能够显著提高器件的性能和可靠性。其优异的绝缘性能和稳定的化学性质，使得氧化铝薄膜成为制造高性能电容器、晶体管等微电子器件的理想材料。此外，在光学领域，氧化铝薄膜被广泛应用于抗反射涂层、高反射涂层和透明导电膜等光学元件的制备中，提高了产品的光学性能和美观度。在装饰保护领域，氧化铝薄膜因其良好的耐磨性和化学稳定性，被用作家具、建筑材料等表面的装饰和保护涂层，延长了产品的使用寿命。
 
综上所述，Aluminum Oxide（Al？O？）氧化铝靶材以其高纯度、高密度和高熔点等优异特性，在半导体、光学、装饰保护等多个领域中展现出了广泛的应用优势和巨大的市场潜力。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，氧化铝靶材必将在更多领域中发挥重要作用。