高纯度贵金属 钌（Ru）磁控溅射镀膜沉积靶材PVD镀膜材料蒸发颗粒 科研实验 尺寸定制
 
 
 
 
 
 
  
 
   
 
产品名称：
 
 
   
 
钌（Ruthenium -Ru）溅射靶材
 
 
  
 
  
 
   
 
牌号规格：
 
 
   
 
Ru2
 
 
  
 
  
 
   
 
用途备注：
 
 
   
 
钌薄膜由于其  的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等
 
 
  
 
 
 
 
 
 
产 品 详 情
 
   贵金属钌薄膜由于其  的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术，能够制备出满足客户不同需求的   大尺寸钌(Ru)溅射靶材。
 
 
 
 
  
 
   
 
规格尺寸
 
 
  
 
  
 
   
 
形状
 
 
   
 
圆形、方形
 
 
  
 
  
 
   
 
尺寸
 
 
   
 
Φ10~200mm
 
 
  
 
  
 
   
 
厚度
 
 
   
 
3~15mm
 
 
  
 
  
 
   
 
纯度
 
 
   
 
4N
 
 
  
 
  
 
   
 
注：其它尺寸可根据客户要求制作。
 
 
  
 
 
 
 
 
 
贵金属钌（Ruthenium, Ru）
 
 
 
 
 
高纯贵金属钌（Ruthenium, Ru）作为磁控溅射镀膜沉积靶材及PVD镀膜材料、蒸发颗粒材料，以其  的物理和化学性质，在多个高科技领域展现出显著的应用优势。
 
 
 
 
 
  
 
   
 
PRECIOUS METALS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold (Au)
 
 
   
 
Palladium (Pd)
 
 
  
 
  
 
   
 
Silver (Ag)
 
 
   
 
Platinum (Pt)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold Arsenic (AuAs)
 
 
   
 
Rhenium (Re)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold Tin (AuSn)
 
 
   
 
Rhodium (Rh)
 
 
  
 
  
 
   
 
Iridium (Ir)
 
 
   
 
Ruthenium (Ru)
 
 
  
 
  
 
   
 
Osmium (Os)
 
 
   
 
 
 
 
  
 
 
 
 
我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：
 
 
 
 
 
材料特性：
 
 
1、钌靶材以其高纯度（如3N5级别）著称，确保了镀膜过程的纯净度和最终产品的优异性能。其密度达到12.37g/cm3，使得靶材在溅射过程中能够稳定且  地释放钌原子。钌的熔点高达2334°C，这一特性使得钌靶材能够在极端高温环境下保持结构稳定，适用于高温、高压和腐蚀环境中的镀膜需求。
 
三、市场应用领域：
 
1、在磁控溅射镀膜技术中，高纯钌靶材发挥着关键作用。该技术通过高能离子轰击靶材表面，使钌原子蒸发或溅射，最终沉积在基板表面形成致密、均匀的薄膜。这种薄膜不仅具有高耐腐蚀性，还具备优异的导电性，为电子器件、光学元器件等产品的性能提升提供了重要保障。例如，在平面显示领域，高纯度钌薄膜可用于制作透明导电电极，提高显示屏的透光性和触摸灵敏度；在光学元器件领域，钌薄膜则可用于制  射镜、滤波器等，提升光学系统的整体性能。
 
2、钌蒸发颗粒材料也因其高纯度、高密度和高熔点而备受青睐。在蒸发镀膜工艺中，钌颗粒被加热至高温并蒸发，随后沉积在基板表面形成薄膜。这种工艺同样能够制备出高质量、高性能的钌薄膜，广泛应用于太阳能电池、节能玻璃等领域。例如，在太阳能电池领域，钌薄膜可用作背反射层，提高光电转换效率；在节能玻璃领域，钌薄膜则能赋予玻璃良好的隔热性能和可控光透过率，降低建筑能耗。
 
 
 
钌靶材和蒸发颗粒材料的行业应用优势不仅体现在其优异的物理和化学性能上，还体现在其广泛的适用性和灵活性上。无论是科学研究还是工业生产，钌靶材和蒸发颗粒材料都能提供可靠、  的解决方案。同时，随着科技的不断进步和应用领域的不断拓展，钌靶材和蒸发颗粒材料的市场需求也将持续增长，为相关产业的发展注入新的动力。