商标 | 维意真空 |
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型号 | wayes-GTK |
规格 | 4英寸 |
包装 | 木箱 |
产量 | 12 |
是否有现货 | 否 |
品牌 | 维意真空 |
适用范围 | 材料 |
分类 | 实验室设备 |
类目 | 制备 |
型号 | wayes-GTK |
规格 | 4英寸 |
商标 | 维意真空 |
包装 | 木箱 |
钙钛矿热蒸发镀膜机基本介绍
- 金属薄膜沉积与器件封装、检测用手套箱1台:
- 箱体尺寸:双工位手套箱,长度约1800 mm。箱体预留镀膜
机接口法兰,手套箱后板可安装一台镀膜机,手套箱内具有
安装器件封装与性能检测装置的空间。
- 配置4只手套,可方便实现沉积室取送样品,以及器件封装
与性能检测等操作。
- 配置≥ 2套KF40标准接口。
钙钛矿热蒸发镀膜机性能特点
- 技术要求:
1.1真空度: 极限真空< 2.5*10-5Pa,工作真空度< 8*10-4Pa,
抽速:从大气抽至10-4Pa用时应≤ 30min;
1.2样品架: (1)可对样品实施360度电动旋转,转速可
在0 ~ 30转/min内连续调节。 (2)高度可调,蒸镀
距离在120-250mm范围内可调节。
1.3样品尺寸:样品基本尺寸为15×15mm/块,可分别承装如
下数量的样品: (1)3块×3块排列方式,可承装9块
/次。 (2)4块×4块排列方式,可承装16块/次。
1.4各密封接口真空漏率≤ 5×10-9Torr?L/s(用进口氦质谱
检漏仪检测)。
1.5 膜厚控制设备:膜厚探头2个,探测数据可同时显示在膜
厚仪上。
1.6 样品台(基片台)配备挡板,蒸发源配备可有效防止不同
材料交叉污染的遮挡装置。
钙钛矿热蒸发镀膜机技术参数技术指标:
1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa,漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套,配有大挡板和16套小挡板,手动
控制,开关方便快捷,每个小挡板挡两块30*30mm样片
- 蒸发源共14套,其中10套有机蒸发源,4套金属蒸发源。控温
精度±1℃,可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能
- 金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源,通过铜电极
连接,两端可夹钨绞丝或者钽舟,钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒
材料,钽舟可以蒸镀粉末状材料,蒸发源采用陶瓷全密封,避免交
叉污染
- 有机蒸发源配10台一带一温控电源,有机源温度为室温-500度,
可以根据材料及用户需求自行调节
- 样品台具有旋转、升降功能,可在线更换掩膜板一次,可同时装
载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板,
并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个定位,使机械手
推拉小挡板,样品与蒸发源之间的间距为200-300mm
钙钛矿热蒸发镀膜机使用说明2.1 真空沉积腔体:具有观察窗,手动开门设置方便取样和
进样。
2.2镀膜机与手套箱的连接方式: 要求镀膜机位于手套箱外
(背后),蒸发室在手套箱内有方形门,可实现样品由手套
箱内直接传进蒸镀室。要求蒸镀室与箱体之间无泄漏,蒸
镀室口与手套箱接口密封良好、耐用,无泄漏。
2.3要求蒸发室在手套箱外另有一个门,手动开门设置,便于
清理和维修操作。
2.4 蒸发源4套:可蒸发金(Au)、 银(Ag)、铬(Cr)、钛(Ti)、
铝(Al)、铂(Pt)、氧化钼(MoO3)和LiF等材料。蒸发
源相关的其他要求如下: (1)蒸发电极可加载蒸发舟
或者钨篮,配备标准钼舟及钨蓝各10个。 (2)蒸发电
源1套,可转换供四套蒸发源使用,可在一次抽真空操作
后实现4种材料的顺次蒸镀,既可连续蒸镀4层不同材料。
2.5 真空获得系统:预抽机械泵1个,分子泵1个以及相应的
附件,分子泵水冷系统;分子泵与沉积室之间具备闭锁条
件。
2.6升降样品架。
2.7真空测量系统。
2.8膜厚测试系统。
2.9工作台:含真空计,蒸发源电源和相应控制系统,加热源
控制系统,膜厚测量系统,总电源控制区。
钙钛矿热蒸发镀膜机采购须知2.1箱体材料:不锈钢箱体。
2.2箱体结构:具有可拆卸的 玻璃视窗;配双层不锈钢物
架;带有 阀;
2.3密封性:视窗与箱体之间无泄漏,手套口与手套和视窗之
间密封良好、耐用,无泄漏。
2.4泄露率:≤ 0.05vol%/h,泄漏率可检测;H2O < 1ppm,
O2< 1ppm。
2.5 净化效率:高净化效率,再生间隔时间长。
2.6 过渡仓:手套箱的箱体外侧各另设置一个过渡舱,过渡仓
尺寸≥ 150mm,长度为300 mm。
2.7传送及操作方式:过渡仓内设置可滑动托盘,样品可通过
移动托盘传送至手套箱内,托盘易于拆卸;手动操作。
2.8控制系统:用户友好的中英文操作界面的触屏。实现以下
控制功能:工作压力调节、箱内气体自动清洗、箱内气氛
自动报警、显示操作错误提示、可手动或自动检测泄漏率
等。
2.9 其他附件: (1)真空泵,气体纯化系统:气体纯化柱、
循环风机、有机溶剂吸附柱; (2)水、氧分析仪:分析
仪精度0.2 ppm或以上;分析仪输出可直接连接到触摸控制
屏,可对气体循环系统进行自动控制,实现自动循环;可设
定报警值; (3)箱内电源接口:配多孔电源插座。 (4)
手套箱总体功能要求:样品送入大(或小)过渡仓后,可在
高纯气氛或真空气氛条件下实现有机薄膜沉积、金属电极薄
膜沉积、器件封装及性能检测等功能。 (5)手套箱验收
标准:使用99.999%惰性气源,空箱运转,箱内水氧含量均
小于1ppm。
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