小型全自动磁控溅射镀膜机
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北京市
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北京维意真空技术应用有限责任公司

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身份认证
主营产品:
ALD原子层沉积镀膜设备,PECVD设备,磁控溅射镀膜机,真空腔体,真空配件,管式炉,马弗炉,热压炉,PLD激光脉冲沉积镀膜设备,探针台,低空环境模拟器,ALD/MO源瓶
- 产品参数 -
商标 维意真空
型号 wayes-ZII
规格 2英寸
包装 木箱
产量 12
是否有现货
品牌 wayes-vac
适用范围 材料
分类 工业仪器仪表
类目 仪器
型号 wayes-ZII
规格 2英寸
商标 维意真空
包装 木箱
- 产品详情 -
小型全自动磁控溅射镀膜机基本介绍

该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简单紧凑易于操作,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内 的配置,从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到 地保障。

该设备标配2Φ2英寸永磁靶,一台500W直流溅射电源(用于溅射金属导电材料),1300W全自动匹配射频溅射电源(用于溅射绝缘材料,自选),主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

小型全自动磁控溅射镀膜机性能特点

2.1 腔室尺寸:Ф246×228mm1Cr18Ni9Ti 不锈钢材质,氩弧焊接;

2.2 样品台尺寸:Ф75mm,高度:60120mm可调,旋转:0-20r/min可调;可加热至600℃;

2.3 真空系统:机械泵TRP-12,3L/S+脂润滑分子泵(FF-63/80,70L/s)GDC-25b电磁挡板阀,DN63mm 限流阀;

2.4 极限真空:8.0×10-5Pa

2.5 真空抽速:大气8×10-4Pa ≤ 20min

2.6 真空测量:全量程复合真空计,测量范围:105Pa10-5Pa

2.7 磁控靶:Φ2英寸2只(含靶挡板),兼容直流电源和射频电源;

2.8 溅射电源:1500W直流溅射电源和1300W全自动匹配射频电源(自选)

2.9 质量流量计:国产20sccm50sccm质量流量控制器各一套;

2.10控制方式:PLC+触摸屏智能控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能;

2.11设备外形:L60cm×W60cm×H96cm机电一体化机架,预留1KF401CF35法兰接口;

2.12 设备供电总功率≤2KW220V,单相三线制(一火一零一地);

2.13 冷却循环系统:水压0.20.4MPa,水温1025℃,给设备相关需水冷部件提供稳定的制冷水;

小型全自动磁控溅射镀膜机技术参数

真空腔室

Ф246×228mm1Cr18Ni9Ti 不锈钢,维意真空

分子泵

脂润滑分子泵(FF-63/80,70L/s),中科仪

前级泵

 机械泵,北仪优成

真空规

全量 空规,成都睿宝

溅射靶

Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板),维意真空

溅射电源

500W直流溅射电源1台,300W全自动匹配射频电源1

流量计

20sccm/50sccm,七星华创

控制系统

PLC+触摸屏智能控制系统1套,维意真空

冷水机

LX-300维意真空

前级阀

GDC-25b电磁挡板阀1套,维意真空

旁路阀

GDC-25b电磁挡板阀1套,维意真空

限流阀

DN63mm一套维意真空

充气阀

Φ6mm,电磁截止阀1套,七星华创

放气阀

Φ6mm,电磁截止阀1套,七星华创

基片台

Ф75mm,高度:60120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至600℃,维意真空

真空管路

波纹管、真空管道等1套,维意真空

设备机架

机电一体化,维意真空

预留接口

CF35法兰一个,维意真空

备件

CF35铜垫圈及氟密封圈全套等,维意真空

小型全自动磁控溅射镀膜机使用说明 4.1  实用性:

4.1.1  设备集成度高,结构紧凑,占地面积小,可以放置于实验桌面上即可;

4.1.2通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换,实现一机多用;.2  方便性:4.2.1  设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接线及安装调试简单,既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁性;

4.2.2  设备可将主机置于手套箱内,水、电、气等通过4KF40接口接到手套箱外,与手套箱的对接灵活方便;

4.2.3  设备工作电压为220V,整机功率小于2KW,对实验室的供电要求低;

4.3  稳定性:

4.3.1设备主要零部件采用进口或国内 品牌,保证了设备的质量及稳定性;

4.4   性:

4.4.1  独立开发的PLC+触摸屏智能操作系统,具有智能控制模式和调试维修模式;

4.4.2  控制系统具备漏气自检与提示功能,当设备漏气时,系统会自动提示设备漏气,以便用户进行检漏,保证设备正常稳定运行;

4.4.3  控制系统具备保养维护提示功能,当设备运行达到一定时长,系统会自动提示设备需要维护保养,以便用户及时进行维护,保证设备正常稳定运行;

4.4.4  控制系统具备通讯故障自检功能,系统对分子泵、溅射电源、真空规、电机、流量计等部件的通讯进行自检,如果某个部件出现故障,可以按照系统中的各部件故障查询办法进行查询,及时确认故障原因,保证设备 ;

4.4.5  控制系统具备数据记录与导出功能,控制系统记录设备的操作记录及镀膜过程数据,可以在系统中查看这些数据,也可以用U盘导出这些数据;

4.4.6  该系统具备三个等级级密码保护功能,不同等级不同使用权限,确保设备的安全性和数据的保密性;

小型全自动磁控溅射镀膜机采购须知

5.1 供电要求

5.1.1  设备供电总功率≤2KW220V,单相三线制(一火一零一地);

5.1.2  插座距离设备尺寸2m

5.1.3  其它:如用户选配冷却循环水机或其它选购件,用户自行准备增配件的供电要求,不在安装条件范围内;

5.2供水要求

5.2.1  设备需水冷的部件有磁控靶、膜厚仪探头(如选配膜厚控制系统);

5.2.2  水压0.20.4MPa水温1025℃;

5.3安装场地大小要求

      设备尺寸为:长×: L60cm×W60cm,建议安装场地尺寸L60×W80cm

5.4 其他要求

5.4.1  环境温度:540

5.4.2  环境湿度:<85%R.H

5.4.3  室内无大量尘埃,无腐蚀性、易燃易爆气体;

6.设备服务承诺

    尊敬的客户:

首先感谢您对我们公司产品的信任!

我公司本着“以 合理的价格、 完善的服务、提供 质的产品”的宗旨向您郑重承诺:

6.1 售后服务承诺

   6.1.1  产品质保期为一年;

      6.1.2 在质保期内供方将免费维修和更换因设备质量原因造成的零部件损坏;

      6.1.3  在质保期外设备零部件的损坏,提供的配件只 费

6.1.4  质保期内或质保期外如设备出现故障,供方接到用户的正式通知(含电话或邮件通知)后,我公司技术人员于48小时内,赶到技术服务现场并开始维修。

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