EVG610 紫外线纳米压印光刻系统基本介绍 
 
 
 
EVG®610  UV Nanoimprint Lithography System
 
 
EVG®610  紫外线纳米压印光刻系统
 
 
 
 
 
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到  150毫米
 
 
 
 
 
技术数据
 
 
该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。 
 
 
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其  的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。
 
 
对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括  的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。
 
 
 
 
 
 
 
 
特征
 
 
顶侧和底侧对齐能力
 
 
高精度对准台
 
 
自动楔形误差补偿机制
 
 
电动和配方控制的曝光间隙
 
 
支持  的UV-LED技术
 
 
最小化系统占地面积和设施要求
 
 
分步流程指导
 
 
远程技术支持
 
 
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
 
 
敏捷处理和光刻工艺之间的转换；      台式或带防震花岗岩台的单机版
 
 
附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷
 
 
 
 
 
技术数据
 
 
晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：  150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：  150毫米的碎片
 
 
解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
 
 
支持流程
 
 
柔软的UV-NIL
 
 
曝光源： 光源或紫外线LED光源
 
 
自动分离：不支持；
 
 
工作印章制作：外部；
 
 
 
 
 
 
 EVG610 紫外线纳米压印光刻系统性能特点 
 

    
 
 
 EVG610 紫外线纳米压印光刻系统技术参数 
 

    
 
 
 EVG610 紫外线纳米压印光刻系统使用说明 
 

    
 
 
 EVG610 紫外线纳米压印光刻系统采购须知