高纯贵金属99.95% 铑磁控溅射镀膜靶材(Rh) 铑环、 铑颗粒、 蒸发镀膜材料 科研实验 背靶绑定
 
 
 
 
 
 
  
 
   
 
产品名称：
 
 
   
 
铑靶、铂靶、钯靶、银靶、铱靶
 
 
  
 
  
 
   
 
牌号规格：
 
 
   
 
Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
 
 
  
 
  
 
   
 
用途 ：
 
 
   
 
主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。
 
 
  
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
产 品 详 情
 
随着磁控溅射镀膜靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。
 
 
 
铑溅射靶材Rhodium (Rh)
 
 
 
 
  
 
   
 
形状
 
 
   
 
圆形、方形
 
 
  
 
  
 
   
 
尺寸
 
 
   
 
Φ50~170mm
 
 
  
 
  
 
   
 
厚度
 
 
   
 
3~15mm
 
 
  
 
  
 
   
 
纯度
 
 
   
 
≥3N5
 
 
  
 
 
 
 
注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。
 
贵金属铑（Rhodium, Rh）
 
 
 
 
 
高纯贵金属铑（Rhodium, Rh）溅射靶材、铑环及铑颗粒作为蒸发镀膜材料，以其  的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中占据着重要地位。
 
 
 
 
 
  
 
   
 
PRECIOUS METALS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold (Au)
 
 
   
 
Palladium (Pd)
 
 
  
 
  
 
   
 
Silver (Ag)
 
 
   
 
Platinum (Pt)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold Arsenic (AuAs)
 
 
   
 
Rhenium (Re)
 
 
  
 
  
 
   
 
Gold Tin (AuSn)
 
 
   
 
Rhodium (Rh)
 
 
  
 
  
 
   
 
Iridium (Ir)
 
 
   
 
Ruthenium (Ru)
 
 
  
 
  
 
   
 
Osmium (Os)
 
 
   
 
 
 
 
  
 
 
 
 
我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：
 
 
 
 
 
材料特性：
 
 
1、高纯铑溅射靶材的纯度通常达到99.95%以上，甚至可达99.999%的  纯度，这意味着其杂质含量极低，能够确保镀膜过程的纯净性和最终产品的  性能。铑的密度为12.41g/cm3，这使得铑靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。此外，铑的熔点高达1966°C，沸点 是达到3695°C至3727°C之间，这一特性赋予了铑靶材在高温环境下的  稳定性和耐腐蚀性，为高温镀膜工艺提供了坚实保障。
 
2、铑环和铑颗粒作为蒸发镀膜材料，同样具备高纯度和优异的物理性能。它们能够在蒸发过程中均匀且稳定地释放铑原子，形成高质量的薄膜，满足高精度、高要求的镀膜需求。铑的高反射率和良好的导电性，使得其在光学和电子领域具有广泛的应用潜力。
 
三、行业应用：
 
1、高纯铑溅射靶材、铑环及铑颗粒蒸发镀膜材料展现出了显著的优势。在电子工业中，铑靶材被广泛应用于制备高精度电阻、传感器以及高频电子设备的关键部件。其高纯度和稳定性确保了电子元件的高精度和长寿命。同时，铑的高反射率也使其成为制作高反射率反射镜和光学元件的理想材料。
 
2、在镀膜行业中，铑环和铑颗粒蒸发镀膜材料被用于制备高性能的镀膜层，如汽车玻璃、建筑玻璃以及光学信息存储介质等。铑镀层不仅色泽坚固、不易磨损，而且反光效果好，能够显著提升产品的外观和性能。此外，铑镀层还具有良好的耐腐蚀性和化学稳定性，能够在恶劣环境下保持长久的性能。
 
3、铑靶材还在化工生产中发挥着重要作用。它可以用于制备催化剂，如铑基氧化物催化剂，在有机合成和石油化工反应中展现出优异的催化性能。这些催化剂能够加速反应速率、提高产率和选择性，为化工行业的发展提供了有力支持。
 
综上所述，高纯贵金属铑溅射靶材、铑环及铑颗粒蒸发镀膜材料以其  的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，这些材料将继续为提升产品质量、推动产业升级贡献重要力量。