EVG单面双面半自动光刻机
 
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EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理  200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在一分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
 
 
 
二、应用范围
 
EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS、）硅片凸点、芯片级封装以及化合物半导体等，涵盖了微电子领域微米或亚微米级线条的芯片的光刻应用。
 
 
 
三、主要特点
 
 
 
1. 最大化的降低使用者的总体拥有成本；
 
2. 支持背面对准光刻和键合对准工艺
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
3. 自动的微米计控制曝光间距
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
4. 自动契型补偿系统
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
5. 优异的全局光强均匀度
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
6. 免维护单独气浮工作台
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
7. 最小化的占地面积
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
图形化用户界面
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
9. 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
四、技术参数
 
 
 
衬底/晶片尺寸（mm）
 
小片--200mm，150mm*150mm，0.1-10mm 厚度
 
掩膜板最大尺寸
 
  9'*9'
 
物镜间距
 
8-30mm连续可调
 
对准方式
 
上部对准，CCD
 
±0.5um
 
上部对准，目镜
 
可选
 
底部对准
 
可选
 
透过式红外对准
 
可选
 
键合对准
 
可选
 
原位对准校正
 
可选
 
工作台
 
精密微米计
 
手动
 
载片台
 
真空吸盘式，标配4寸，可扩至8寸
 
接触压力
 
5-80N可调
 
曝光
 
方式
 
接近式，软、硬、真空接触
 
分辨率
 
接触式<0.8um,接近式≥2um
 
波长
 
350-450nm,可选200nm
 
光强均匀性
 
≤2%
 
汞灯
 
350W，500W
 
纳米压印光刻
 
硬压头
 
可选
 
软压头
 
可选